荷兰光刻机没有想象中强大，我们的光刻机虽然还在努力但也不弱

　荷兰光刻机没有想象中强大，我们的光刻机虽然还在努力但也不弱。我们经常听说EUV刻机器，它在7纳米后取代了芯片生产的原DUV光刻机器。前者没有工艺级限制，后者在最高工艺级只能达到7nm。但是，目前只有荷兰的ASML能制造EUV 光刻机！

然而，华为事件给我们敲响了警钟，中国科学院冲进光刻机器领域，要求布局克服相应的技术难题，消息来自国外媒体。荷兰阿斯莫尔慌了！不是说荷兰ASML科技是第一吗？怎么改？事实上，荷兰ASML并没有那么强大！

荷兰光刻机没有想象中强大。

首先，EUV光刻已经存在了很长时间，但它不是最近几年的产物。但是，EUV 光刻当时只停留在实验室阶段，无法大规模进入工业应用，从而取代工厂！问题的关键在于光刻工厂提供的生产能力和性能不能满足芯片的生产要求。

例如，在2014年，ASML实验室阶段的EUV 光刻机器每小时只能处理10个晶片。显然，它根本无法满足台积电， 三星， 英特尔和其他芯片制造商的“胃口”；不仅如此，高昂的成本超出了人们的想象！市场不会接受这样的光刻机器！

其次，2017年，荷兰ASML研发的EUV 光刻机勉强达到商业要求，3400B二代EUV 光刻机每小时可加工125片晶圆！但是到了2019年，三代机3400C真的跨越了，每一代机的水平都没有多大提升，连研发费用都没了！

最后，荷兰ASML将于2021年发布3400D。据说性能提升只有18%！特别是荷兰的ASML没有那么强大，产能很低。就连最近去世的三星， 李健熙的儿子李在镕，也曾在荷兰!的ASML总部抢购商品。

为什么荷兰的ASML正忙着推出一款新的光刻机器？荷兰ASML忙着推出新机器是有原因的，但是性能不高！芯片概念。

我们的光刻机虽然还在努力但也不弱。

首先，是我们国内对布局光刻飞机的需求！毕竟中国科学院实力很强，荷兰ASML只是一个公司！我们只能抓紧开发新机器来维持我们的市场地位！

其次，是光刻机器的技术。事实上，光刻机器最重要的是光源。EUV 光刻机光源13.5nm，成熟的DUV 光刻机主要使用193nm。波长越短，工艺水平越高，物镜数量也是影响因素之一。数值越高，光刻装置提供的加工水平越高，这些物镜都是手工抛光的！

事实上，荷兰的ASML也是一个组装制造商，没有太多的技术。光源技术主要由美国，提供，物镜由蔡司，德国提供

最后，是中科院的实力。虽然没多久中科院就正式宣布了布局光刻机，但是其他人的技术都是一流的，很多。中科院微电子研究所开发的关键图形筛选技术也有效提高了光刻机的分辨率，提升了技术水平！这是荷兰ASML无法比拟的，技术优先于荷兰ASML！

中国光刻将加油！

虽然荷兰ASML公司有大大小小的问题，但ASML确实垄断了整个高端光刻机的市场，我们不得不承认，承认别人比我们强没什么！技术上一个是一个，从来没有脸这种东西！做科研自知很重要！

荷兰光刻机没有想象中强大，我们的光刻机虽然还在努力但也不弱。

荷兰ASML非常有自知之明，它知道自己的问题，所以它不断推出新的光刻机器，并希望保持领先地位！我们也应该有自知之明，努力解决芯片的困难问题。